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纳米铜膜的制备

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2019-10-29 14:03:34 * 浏览: 85
[Convo真空网络]将真空室的压力抽至10-3Pa的2倍,然后将旋转目标的目标表面转为水平,以避免轰击主离子源。高纯氩气进入主离子源,正常放电后将离子束取出。打开挡板,离子束轰击旋转的基板支架上的基板,然后进行溅射清洗。清洗时间为6rrun,真空室压力为2倍,光束稳定后,将铜靶相对于水平面转到450位置。打开挡板,将铜溅射到基板上。镀敷一定时间后,关闭二次离子源,关闭挡板,完成单层铜粒子膜的镀敷。当镀覆复合膜时,可以将石英靶旋转至水平面内的454位置,并重复上述操作。一个周期交替一次,可以用不同的周期数获得不同的薄膜厚度。镀膜样品是Cu / SiO 2。为了使电子显微镜样品的结构与具有异常光吸收特性的光学样品完全一致,首先将石英膜层镀在基板上,然后镀铜膜以方便透射电子显微镜。观察时取样。总共电镀了两个样品。每层的电镀时间为:1号样品S0210min,Cu30s,2号样品SiO210min,Cu40s。